Cas : 11099-06-2, Hengda-Si40, silicate d'éthyle 40, Teos-40, Dynasil40, Tes 40, agent de couplage de silane, silane, Si40

HENGDA-Si40

HENGDA-Si40 est un silicate d'éthyle dont la teneur en dioxyde de silicium est d'environ 38 à 42 % lors de l'hydrolyse complète (la teneur en si de HENGDA-Si40 est calculée comme SiO2).

Le HENGDA-Si40 se forme en présence d'eau provenant du silicate de tétraéthyle (si[OEt]4) par hydrolyse partielle des groupes éthoxy en groupes hydroxyles et condensation subséquente avec formation de liaisons siloxanes (-si-O-si-).

Le HENGDA-Si40 est un liquide incolore à faible viscosité, dont la teneur en SiO2 est de 40 % (la teneur en si du HENGDA-Si40 est calculée comme SiO2). Les acides polysilicium ont encore une teneur suffisante en groupes éthoxy qui peuvent être activés par hydrolyse catalysée par l'acide ou la base. La condensation commence même pendant l'hydrolyse, avec la formation de molécules polymériques relativement grandes. Pendant le stockage de ces hydrolysats, la condensation se poursuit jusqu'à la formation d'un gel, où le taux dépend du degré d'hydrolyse.

L'action des hydrolysats comme liants est basée sur la poursuite de l'hydrolyse avec la gélation et la déshydratation ultérieures pour donner des structures polymériques de SiO2.

De même, on utilise du HENGDA-Si28 pour déposer l'acide silicique formé à la suite d'une hydrolyse complète. L'acide silicique résultant adhère bien à de nombreux substrats inorganiques, tels que le verre, la céramique, le métal, les charges, pigments et fibres synthétiques. Le dépôt d'une couche mince de SiO2 améliore la stabilité chimique et thermique ainsi que les propriétés mécaniques.
 

HENGDA-Si40 est un silicate d'éthyle dont la teneur en dioxyde de silicium est d'environ 38 à 42 % lors de l'hydrolyse complète (la teneur en si de HENGDA-Si40 est calculée comme SiO2).

Le HENGDA-Si40 se forme en présence d'eau provenant du silicate de tétraéthyle (si[OEt]4) par hydrolyse partielle des groupes éthoxy en groupes hydroxyles et condensation subséquente avec formation de liaisons siloxanes (-si-O-si-).

Le HENGDA-Si40 est un liquide incolore à faible viscosité, dont la teneur en SiO2 est de 40 % (la teneur en si du HENGDA-Si40 est calculée comme SiO2). Les acides polysilicium ont encore une teneur suffisante en groupes éthoxy qui peuvent être activés par hydrolyse catalysée par l'acide ou la base. La condensation commence même pendant l'hydrolyse, avec la formation de molécules polymériques relativement grandes. Pendant le stockage de ces hydrolysats, la condensation se poursuit jusqu'à la formation d'un gel, où le taux dépend du degré d'hydrolyse.

L'action des hydrolysats comme liants est basée sur la poursuite de l'hydrolyse avec la gélation et la déshydratation ultérieures pour donner des structures polymériques de SiO2.

De même, on utilise du HENGDA-Si28 pour déposer l'acide silicique formé à la suite d'une hydrolyse complète. L'acide silicique résultant adhère bien à de nombreux substrats inorganiques, tels que le verre, la céramique, le métal, les charges, pigments et fibres synthétiques. Le dépôt d'une couche mince de SiO2 améliore la stabilité chimique et thermique ainsi que les propriétés mécaniques.
 

HENGDA-Si40 est un silicate d'éthyle dont la teneur en dioxyde de silicium est d'environ 38 à 42 % lors de l'hydrolyse complète (la teneur en si de HENGDA-Si40 est calculée comme SiO2).

Le HENGDA-Si40 se forme en présence d'eau provenant du silicate de tétraéthyle (si[OEt]4) par hydrolyse partielle des groupes éthoxy en groupes hydroxyles et condensation subséquente avec formation de liaisons siloxanes (-si-O-si-).

Le HENGDA-Si40 est un liquide incolore à faible viscosité, dont la teneur en SiO2 est de 40 % (la teneur en si du HENGDA-Si40 est calculée comme SiO2). Les acides polysilicium ont encore une teneur suffisante en groupes éthoxy qui peuvent être activés par hydrolyse catalysée par l'acide ou la base. La condensation commence même pendant l'hydrolyse, avec la formation de molécules polymériques relativement grandes. Pendant le stockage de ces hydrolysats, la condensation se poursuit jusqu'à la formation d'un gel, où le taux dépend du degré d'hydrolyse.

L'action des hydrolysats comme liants est basée sur la poursuite de l'hydrolyse avec la gélation et la déshydratation ultérieures pour donner des structures polymériques de SiO2.

De même, on utilise du HENGDA-Si28 pour déposer l'acide silicique formé à la suite d'une hydrolyse complète. L'acide silicique résultant adhère bien à de nombreux substrats inorganiques, tels que le verre, la céramique, le métal, les charges, pigments et fibres synthétiques. Le dépôt d'une couche mince de SiO2 améliore la stabilité chimique et thermique ainsi que les propriétés mécaniques.
 

Fûts de 25 kg, 200 kg et 1 000 kg de GRV  
 

1. Le premier fabricant d'agents de couplage de silane en Chine depuis 1965. Nous avons la plus grande expérience de production dans les agents de couplage de silane.  
2. Professionnel dans la production  d'agents de couplage de silane de haute qualité.  
3. Installations de sécurité telles que le système d'exploitation de télécontrôle automatique DCS, le système d'instrumentation de sécurité SIS; installations de traitement environnemental telles que le système de collecte et de traitement des gaz résiduaires, le système de traitement des eaux usées.
4. Confiance des clients du monde entier dans plus de 57 pays et régions.